Voir®臭氧化模组

解决方案

硅片生产/逻辑电路/存储器制造

传统的化学品清洁工艺采用硫酸化合物对硅片、晶圆等进行清洗，不但成本高、操作危险，还存在环境污染这一“天生劣势”。在环保、可持续发展的趋势下，化学品清洁工艺面临“退出历史舞台”的窘境，取而代之的便是更环保和节约成本的臭氧水方案。

Voir®臭氧化模组能过滤去除臭氧气体中的颗粒，其独特的含氟聚合物结构，可生成更高洁净度的臭氧水，确保在硅片和平板显示器的清洁过程不会被有机杂质污染。